Вольфрамовый лист 3х80х2000 мм В-МП в в Каменске-Уральском

Гладкость и чистота поверхности листа существенно повышают его коррозионную стойкость в высокотемпературных жидких металлах. Шероховатости, дефекты или наличие окислов могут способствовать смачиванию и последующей эрозии или растворению материала.

Промышленные стандарты предусматривают требования к температуре отжига вольфрамового листа (например, 1000-1400°С для снятия напряжений или 1500-2000°С для рекристаллизации). Также указываются время выдержки и тип атмосферы (вакуум, водород или инертный газ) для достижения требуемой микроструктуры.

Преимущества применения вольфрамового листа в качестве мишеней для ионной имплантации заключаются в его высокой плотности, высоком атомном номере и высокой температуре плавления. Эти свойства обеспечивают эффективное торможение ионов, минимизируют распыление и позволяют работать с высокими токами.

Вольфрамовый лист ВД идеально подходит для рентгеновских трубок. Это обусловлено его высокой плотностью, высоким атомным номером и температурой плавления, что обеспечивает эффективное тормозное излучение для генерации рентгеновских лучей и высокую термическую стабильность мишени.

Точная плотность вольфрамового листа ВД при 25°С составляет приблизительно 19.25 г/см³. Это одна из самых высоких плотностей среди всех металлов, что обеспечивает его высокую эффективность в экранировании излучения и как материал с большой массой на единицу объема.

Для холодной резки вольфрамового листа наиболее эффективны методы, не вызывающие значительных механических напряжений, такие как гидроабразивная или лазерная резка. Механические способы, например, ножницы или штамповка, не рекомендуются из-за высокой хрупкости материала.

Вольфрамовый лист встречается в экспериментальных установках, требующих сверхвысоких температур, таких как токамаки (для футеровки первой стенки), высокотемпературные вакуумные печи для синтеза материалов и установки для исследования плазмы.